DNS SKW80 — трек-система для обработки фоторезиста на полупроводниковых пластинах диаметром 150 и 200 мм. Оборудование используется на этапах нанесения фоторезиста перед экспонированием и проявления рисунка после экспонирования.
SKW80 выпускалась в разных конфигурациях. Установка может быть оборудована модулями нанесения, модулями проявления либо их комбинацией. Поэтому при выборе машины важно проверять не только модель, но и фактически установленные технологические модули.
Что может выполнять DNS SKW80
В зависимости от комплектации установка используется для:
нанесения фоторезиста на пластину;
равномерного распределения фоторезиста вращением;
проявления рисунка после экспонирования;
нагрева пластин до и после нанесения;
охлаждения пластин между операциями;
автоматической передачи пластин между модулями.
DNS SKW80 подходит для фотолитографических линий производства полупроводниковых приборов, MEMS и других изделий на пластинах 150 или 200 мм.
Основные характеристики DNS SKW80
| Параметр | Значение |
|---|
| Производитель | DNS |
| Модель | SKW80 |
| Тип оборудования | Трек-система нанесения и проявления фоторезиста |
| Диаметр пластин | 150 и 200 мм |
| Возможные конфигурации | 1C+2D, 2C или 2D |
| Модули C | Нанесение фоторезиста |
| Модули D | Проявление фоторезиста |
| Основной процесс | Нанесение и проявление фоторезиста |
| Область применения | Полупроводниковая фотолитография |
| Состояние | Бывшее в эксплуатации |
| Наличие | Уточняется по запросу |
Выбор конфигурации
Обозначение SKW80 само по себе не подтверждает комплектацию машины. На рынке встречаются установки с разным количеством модулей:
1C+2D — один модуль нанесения и два модуля проявления;
2C — два модуля нанесения;
2D — два модуля проявления.
Кроме основных технологических модулей необходимо проверить наличие горячих и охлаждающих плит, кассетных станций, химического шкафа и оборудования контроля температуры.