SAMCO AD-230LP — система плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения с загрузочной камерой. Установка предназначена для нанесения тонких конформных плёнок с точным контролем толщины на плоские пластины и трёхмерные структуры.
Оборудование подходит для исследовательских лабораторий, опытного производства и специальных полупроводниковых процессов, где важны равномерное покрытие сложного рельефа и воспроизводимость толщины слоя.
Что это за установка и для какого процесса она используется
AD-230LP работает по методу PEALD — Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition. В отличие от обычного непрерывного CVD-процесса, прекурсор и реагент подаются в камеру последовательно.
После каждого этапа камера продувается, а образование плёнки происходит за счёт саморегулирующихся поверхностных реакций. Толщина покрытия увеличивается постепенно, цикл за циклом.
Использование плазмы позволяет активировать реакцию при сравнительно низкой температуре и получать плотные покрытия на материалах, которые чувствительны к сильному нагреву.
Загрузочная камера уменьшает контакт технологической камеры и обрабатываемых образцов с атмосферой. Это помогает снизить влияние влаги и внешних загрязнений на процесс.
Какие материалы и изделия можно обрабатывать
В опубликованных конфигурациях SAMCO AD-230LP применяется для нанесения следующих плёнок:
нитрид алюминия AlN;
нитрид кремния SiN;
оксид алюминия AlOx;
диоксид кремния SiO₂.
Доступность каждого материала зависит от установленной системы подачи прекурсоров, плазменного источника, газовых линий и технологического рецепта.
Типичные области применения:
пассивирующие и изолирующие покрытия;
затворные диэлектрики;
покрытие MEMS-структур;
обработка трёхмерных структур с высоким аспектным отношением;
защитные покрытия оптических компонентов;
покрытие граней лазерных диодов;
исследование новых тонкоплёночных материалов.
Если перед осаждением требуется удаление органических загрязнений или активация поверхности, можно дополнительно использовать оборудование для плазменной очистки.
Основные технические характеристики
| Производитель | SAMCO |
|---|
| Модель | AD-230LP |
|---|
| Тип оборудования | Система плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения |
|---|
| Метод осаждения | PEALD |
|---|
| Тип плазмы | Ёмкостно-связанная плазма |
|---|
| Загрузочная камера | Предусмотрена |
|---|
| Тип подачи реагентов | Последовательная импульсная подача прекурсора и реагента с продувкой между этапами |
|---|
| Поддерживаемые плёнки | AlN, SiN, AlOx и SiO₂ при соответствующей конфигурации |
|---|
| Контроль толщины | Послойное увеличение толщины за счёт циклического ALD-процесса |
|---|
| Размер пластин и образцов | Определяется установленным держателем и конфигурацией конкретной системы |
|---|
| Температура процесса | Зависит от материала плёнки, прекурсора и технологического рецепта |
|---|
Точные значения мощности плазмы, температуры, размера подложки и диапазона расхода газов следует подтверждать по заводской спецификации конкретной установки.
Чем отличаются конфигурации SAMCO AD-230LP
Основное различие между доступными системами AD-230LP связано с тем, под какие материалы и прекурсоры была подготовлена установка.
Перед выбором оборудования необходимо проверить:
количество и тип линий подачи прекурсоров;
наличие обогрева трубопроводов и клапанов;
материалы, которые ранее осаждались в камере;
тип плазменного генератора и согласующего устройства;
размер и конструкцию держателя пластин;
доступный диапазон температуры держателя;
состав газовой панели и диапазоны расходомеров MFC;
состояние загрузочной и технологической камер;
модель вакуумного насоса;
наличие программного обеспечения и рабочих рецептов.
Особое внимание следует уделить истории прекурсоров. Некоторые химические вещества требуют специальных испарителей, подогреваемых линий и совместимых уплотнений. Наличие самой установки ещё не означает, что она готова к нужному заказчику материалу без перенастройки.
Какие данные нужны для подбора системы
Для подбора AD-230LP необходимо указать материал плёнки, тип подложки, размер образца или пластины, требуемую толщину, максимальную температуру процесса и используемый прекурсор. Для трёхмерных деталей желательно также предоставить размеры структуры и её аспектное отношение.
Для более производительного осаждения SiO₂ и SiN на пластинах 150 или 200 мм можно рассмотреть кластерную систему Applied Materials P5000 PECVD. Если задача связана с нанесением металлических слоёв на пластинах 300 мм, подходящим вариантом может быть Canon Anelva FC7100 PVD.
Другие решения доступны в разделе систем нанесения тонких плёнок.