Canon Anelva FC7100 — кластерная PVD-система для вакуумного нанесения тонких плёнок на полупроводниковые пластины диаметром 300 мм. Оборудование применяется для магнетронного и реактивного напыления при формировании металлических и функциональных слоёв.
При подборе бывшей в эксплуатации FC7100 необходимо учитывать не только модель платформы, но и фактический состав модулей, типы катодов, установленные источники питания, газовую систему и историю технологических камер.
Что это за установка и для какого процесса она используется
FC7100 представляет собой кластерную систему физического осаждения из паровой фазы — PVD. Материал мишени распыляется в вакуумной камере и осаждается на поверхности пластины в виде тонкой плёнки.
При подаче реактивного газа система может использоваться для реактивного напыления. Состав получаемой плёнки в этом случае определяется материалом мишени, используемым газом и параметрами процесса.
Платформа рассчитана на последовательную обработку пластин в нескольких модулях без разгерметизации. Это особенно важно при формировании многослойных структур, чувствительных к окислению и загрязнению поверхности.
Какие материалы и изделия можно обрабатывать
Canon Anelva FC7100 используется для нанесения металлических и реактивных тонких плёнок. Конкретный набор материалов зависит от установленных мишеней, катодов и газовой конфигурации.
Типичные области применения системы:
формирование структур high-k/metal gate;
производство логических интегральных схем;
нанесение слоёв для периферийных схем;
производство CMOS-датчиков изображения;
формирование многослойных металлических структур;
исследовательские и опытно-промышленные процессы на пластинах 300 мм.
Перед покупкой необходимо подтвердить совместимость камер с требуемыми материалами. Камера, ранее использовавшаяся для одного типа металла, может потребовать очистки, восстановления или замены технологического комплекта перед запуском другого процесса.
Основные технические характеристики
| Производитель | Canon Anelva |
|---|
| Модель | FC7100 |
|---|
| Тип оборудования | Кластерная PVD-система |
|---|
| Основной процесс | Вакуумное распыление и реактивное напыление |
|---|
| Размер пластин | 300 мм / 12 дюймов |
|---|
| Количество модулей | До 5 модулей, в зависимости от комплектации |
|---|
| Возможные типы модулей | Напыление, травление, окисление и нагрев |
|---|
| Тип обрабатываемых слоёв | Металлические и реактивные тонкие плёнки |
|---|
| Перемещение пластин | Автоматическое перемещение внутри кластерной вакуумной платформы |
|---|
| Основные области применения | High-k/metal gate, логические схемы, периферийные схемы и CMOS-датчики изображения |
|---|
Скорость осаждения, диапазон мощности, равномерность и доступные материалы зависят от конкретного катода, мишени, камеры и технологического рецепта.
Чем отличаются конфигурации Canon Anelva FC7100
Комплектация FC7100 формируется под определённый производственный процесс. Поэтому установки одной модели могут иметь разное количество камер и различный набор технологических модулей.
Основные различия между конфигурациями:
количество установленных модулей — от одной камеры до многомодульной системы;
наличие камер напыления, предварительного травления, окисления или нагрева;
тип и количество катодов в камере;
использование DC- или RF-источников питания;
материалы установленных мишеней;
наличие линий для реактивных газов;
конфигурация загрузочных портов и системы передачи пластин;
модель вакуумных насосов и предельное давление камер;
программное обеспечение и доступные технологические рецепты;
история камер и возможное загрязнение материалами предыдущего процесса.
Что проверить перед покупкой
Для технической оценки необходимо запросить перечень установленных модулей, фотографии камер, спецификацию катодов и источников питания, список мишеней, схему подачи газов, сведения о насосах и историю последнего рабочего процесса.
Также желательно провести проверку вакуумной системы, передачи пластин, загрузочных портов, систем охлаждения, RF/DC-источников и управляющего компьютера.
Если требуется осаждение диэлектрических плёнок SiO₂ или SiN методом PECVD, подходящей альтернативой может быть Applied Materials P5000 PECVD. Для послойного нанесения конформных покрытий на трёхмерные структуры рекомендуем рассмотреть SAMCO AD-230LP PEALD.
Полный список доступных систем находится в разделе оборудования для нанесения тонких плёнок.