Оборудование б/у

Applied Materials P5000 PECVD б/у — осаждение SiO₂ и SiN

Applied Materials P5000 PECVD б/у для осаждения SiO₂ и SiN на пластинах 150 и 200 мм. До четырёх технологических камер. Подбор оборудования по конфигурации.

КатегорияОборудование для нанесения тонких плёнок
СостояниеПодтверждается по машине
Цена и наличиеПо актуальному запросу
Гарантия12 месяцев
Получить цену в WhatsApp

Отправьте модель и город назначения — проверим актуальное предложение.

Applied Materials P5000, также известная как Precision 5000, — это кластерная система плазмохимического осаждения из газовой фазы. Установка применяется для формирования диэлектрических, изолирующих и пассивирующих плёнок на полупроводниковых пластинах.

Мы предлагаем бывшие в эксплуатации системы Applied Materials P5000 и подбираем оборудование с учётом размера пластин, необходимого состава камер, технологического процесса и состояния основных узлов.

Applied Materials P5000 PECVD

Что это за установка и для какого процесса она используется

P5000 относится к системам PECVD — Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. В процессе осаждения плазма активирует газовые реагенты, благодаря чему плёнка формируется при более низкой температуре, чем при обычном термическом CVD.

Установка имеет кластерную конструкцию. Пластины перемещаются между загрузочной зоной и технологическими камерами центральным вакуумным роботом. На одной платформе может быть установлено до четырёх отдельных процессных камер.

Такая конструкция позволяет выполнять несколько процессов осаждения без контакта пластин с атмосферой, а также разделять камеры по типу материала или рецепта.

Какие плёнки и изделия можно обрабатывать

В зависимости от комплектации камер и газовой системы Applied Materials P5000 может использоваться для осаждения следующих материалов:

  • диоксид кремния SiO₂;

  • нитрид кремния SiN или SiNx;

  • пассивирующие диэлектрические покрытия;

  • межслойные изолирующие плёнки;

  • аморфный кремний — при наличии соответствующей камеры и газовой конфигурации.

Система применяется при производстве интегральных схем, дискретных и силовых полупроводниковых приборов, MEMS-компонентов, датчиков и других изделий на кремниевых пластинах.

Перед нанесением плёнки особенно важны состояние поверхности и отсутствие органических загрязнений. Оборудование для подготовки поверхности можно посмотреть в разделе очистки полупроводниковых пластин.

Основные технические характеристики

ПроизводительApplied Materials
МодельPrecision 5000 / P5000 PECVD
Тип оборудованияКластерная система PECVD
Метод обработкиПлазмохимическое осаждение из газовой фазы
Тип обработки пластинОднопластинная обработка
Размер пластин150 или 200 мм, в зависимости от конфигурации
Количество технологических камерДо 4 камер
Типичные плёнкиSiO₂, SiN/SiNx; другие процессы зависят от установленной камеры
Типичный диапазон температуры процессаПриблизительно 200–400 °C; точный диапазон определяется камерой и рецептом
Передача пластинАвтоматическая, с помощью центрального вакуумного робота

Фактические параметры конкретной установки необходимо подтверждать по спецификации камер, газовой схеме и установленному программному обеспечению.

Чем отличаются конфигурации Applied Materials P5000

Название P5000 обозначает платформу, а не одну неизменную комплектацию. Две системы одной модели могут существенно отличаться по технологическим возможностям.

При подборе оборудования необходимо проверить:

  • размер обрабатываемых пластин — 150 или 200 мм;

  • количество и тип установленных PECVD-камер;

  • назначение каждой камеры и историю выполнявшихся процессов;

  • состав газовой панели и диапазоны расходомеров MFC;

  • тип RF-генератора и согласующего устройства;

  • конструкцию электрода и нагревателя;

  • наличие загрузочной станции и состояние вакуумного робота;

  • модель и состояние вакуумных насосов;

  • версию управляющего программного обеспечения;

  • наличие оснастки, запасных частей и технологических комплектов.

Какие данные нужны для подбора установки

Чтобы подобрать подходящую P5000, сообщите размер пластин, требуемый материал плёнки, температуру процесса, количество необходимых камер и целевую производительность. Если имеется действующий технологический процесс, желательно также указать используемые газы и требования к толщине плёнки.

Если для проекта требуется нанесение металлических или реактивных покрытий на пластинах 300 мм, рассмотрите кластерную PVD-систему Canon Anelva FC7100. Для конформных покрытий и точного контроля толщины доступна система SAMCO AD-230LP PEALD.

Другие установки представлены в разделе оборудования для нанесения тонких плёнок.

01 / КОНФИГУРАЦИЯПроверяем фактический комплект

Модули, опции, оснастка и периферия сверяются по конкретной машине.

02 / СОСТОЯНИЕСогласовываем формат проверки

Доступный power-on, dry-cycle или функциональный тест указывается до заказа.

03 / ПОДДЕРЖКАГарантия 12 месяцев

Условия поставки и поддержки закрепляются в коммерческом предложении.

Запросить Applied Materials P5000 PECVD б/у — осаждение SiO₂ и SiN

Сообщите необходимую конфигурацию и город назначения. Мы проверим доступную машину, состояние, комплект, цену и срок поставки.

EmailWhatsApp