SEN GSD III 90 — производственный ионный имплантер высокого тока для управляемого легирования полупроводниковых пластин. В доступных комплектациях система рассчитана на обработку пластин диаметром 150 и 200 мм.
Модель также может обозначаться как NV-GSD III-90. При поиске оборудования необходимо учитывать оба варианта написания, поскольку они встречаются в документации, перечнях запасных частей и предложениях на вторичном рынке.
Для каких операций используется GSD III 90
Система формирует поток ионов, отделяет требуемый вид примеси анализирующим магнитом, ускоряет пучок и направляет его на полупроводниковые пластины. Доза определяет количество введённой примеси, а энергия влияет на глубину её проникновения.
GSD III 90 ориентирован на процессы с высоким током пучка и высокой дозой. Оборудование может применяться для:
формирования областей истока и стока;
легирования контактных областей;
создания низкоомных областей в кремнии;
коррекции пороговых и электрических характеристик прибора;
серийных операций имплантации в производстве кремниевых устройств.
Решение о применимости машины принимается не только по модели. Необходимо сопоставить требуемые энергию, дозу, ток, тип примеси, температуру пластины и угол имплантации с фактической конфигурацией оборудования.
Какие пластины и полупроводниковые изделия подходят
При наличии соответствующего диска, кассет и загрузочных узлов GSD III 90 может работать с пластинами диаметром 150 или 200 мм.
Типичные области применения:
производство MOS- и CMOS-приборов;
аналоговые и силовые микросхемы;
дискретные диоды и транзисторы;
датчики и специальные кремниевые устройства;
поддержание действующих производственных линий на 150 и 200 мм.
Допустимые ионные примеси зависят от источника, газовой системы и предыдущих процессов. Перед переносом рецепта необходимо проверить не только наличие газовой линии, но и требования заказчика по перекрёстному загрязнению.
Основные технические характеристики
| Производитель | SEN / Sumitomo Eaton Nova |
|---|
| Модель | GSD III 90 |
|---|
| Другое обозначение | NV-GSD III-90 |
|---|
| Тип оборудования | Высокоточный ионный имплантер |
|---|
| Класс тока | High Current |
|---|
| Размер пластин | 150 и 200 мм согласно доступным комплектациям |
|---|
| Обработка пластин | Пакетная обработка; количество пластин зависит от установленного диска |
|---|
| Селекция ионов | Масс-анализирующая магнитная система |
|---|
| Диапазон энергии | Определяется конфигурацией beamline и установленных высоковольтных источников |
|---|
| Контроль дозы | Faraday-система и дозовый контроллер; требуется проверка комплектности и калибровки |
|---|
| Угол имплантации | Возможности наклона и вращения зависят от установленной конечной станции |
|---|
| Поддерживаемые примеси | Зависят от источника ионов, газового шкафа и истории beamline |
|---|
Число «90» в обозначении модели не следует автоматически переносить в таблицу как подтверждённую максимальную энергию. Рабочий диапазон необходимо проверять по шильдикам высоковольтных источников, конфигурации beamline и технической документации машины.
Какие конфигурации встречаются на вторичном рынке
Системы GSD III 90 могут различаться по размеру пластин, числу позиций на диске, источнику ионов, высоковольтной части, газовым шкафам и автоматизации загрузки.
До согласования поставки необходимо проверить:
серийный номер и год выпуска;
исполнение для пластин 150 или 200 мм;
количество позиций и состояние технологического диска;
конфигурацию ion source и extraction assembly;
анализирующий магнит и установленные элементы beamline;
комплект высоковольтных источников питания;
Faraday-систему и контроллер дозы;
систему охлаждения пластин;
газовые шкафы, MFC и средства газовой безопасности;
вакуумные насосы и состояние вакуумных камер;
робот, кассетные станции и aligner;
контроллер, программное обеспечение и сохранённые рецепты.
Что запросить перед покупкой
Для технической проверки полезны фотографии всей линии, шильдиков источников питания, source housing, магнита, диска, газовых шкафов и управляющей системы. Также необходимо запросить перечень демонтированных узлов и уточнить, в каком состоянии машина находится сейчас: установлена, отключена, законсервирована или уже упакована.
Наиболее ценными подтверждениями состояния будут недавняя запись включения системы, данные по достижению вакуума, информация о зажигании источника, стабильности пучка, работе дозового контроля и исправности блокировок безопасности.
Данные для подбора GSD III 90
В запросе рекомендуется указать диаметр пластин, вид примеси, необходимый диапазон энергии и дозы, ожидаемый ток пучка, угол имплантации, допустимую температуру пластины и требования по загрязнению.
Если требуется другая платформа для высокодозовой имплантации, сравните эту модель с Axcelis GSD200 и SEN 10GSD-A-160. Все доступные решения собраны в разделе ионных имплантеров для полупроводникового производства.
Для последующей активации примеси может потребоваться печь или система быстрого термического отжига.