SEN 10GSD-A-160 — производственная система ионной имплантации высокого тока для контролируемого легирования полупроводниковых пластин. В доступных спецификациях модель представлена в исполнениях для пластин диаметром 150 и 200 мм.
Эта машина может использоваться для поддержки действующих технологических линий, расширения производственных мощностей или замены оборудования семейства GSD. Окончательная применимость определяется составом источника ионов, beamline, конечной станции и газовой системы.
Что делает SEN 10GSD-A-160
В процессе работы источник создаёт ионы легирующего элемента. Затем пучок проходит через экстракционную и масс-анализирующую системы, ускоряется до требуемой энергии и направляется на пластины, установленные в конечной станции.
Дозовый контроллер отслеживает количество введённых ионов, а технологический рецепт управляет основными параметрами процесса. После имплантации обычно выполняется термический отжиг, необходимый для активации примеси.
10GSD-A-160 относится к высокоточным системам и применяется в операциях, где необходимо быстро получить высокую дозу легирования.
Для каких технологических операций подходит машина
В зависимости от фактической конфигурации система может применяться для:
высокодозового легирования кремниевых пластин;
формирования областей истока и стока;
обработки контактных областей;
формирования низкоомных слоёв;
выпуска дискретных, аналоговых и силовых приборов;
производства микросхем на пластинах 150 и 200 мм.
Работа с конкретной примесью должна подтверждаться отдельно. Важны тип source head, газовые линии, диапазоны MFC, материалы внутренних деталей и история предыдущих процессов.
Какие материалы и изделия можно обрабатывать
Основное применение 10GSD-A-160 — обработка кремниевых полупроводниковых пластин. Система может рассматриваться для производства:
MOS- и CMOS-компонентов;
силовых полупроводниковых приборов;
диодов и транзисторов;
аналоговых микросхем;
датчиков и специализированных кремниевых устройств;
изделий, выпускаемых на действующих линиях зрелых технологических процессов.
Применимость оборудования для нестандартных подложек или специальных материалов необходимо оценивать по технологическому заданию. Одного совпадения размера пластины для этого недостаточно.
Основные технические характеристики
| Производитель | SEN / Sumitomo Eaton Nova |
|---|
| Модель | 10GSD-A-160 |
|---|
| Тип оборудования | Ионный имплантер высокого тока |
|---|
| Назначение | Высокодозовое легирование полупроводниковых пластин |
|---|
| Размер пластин | 150 и 200 мм согласно доступным спецификациям |
|---|
| Способ обработки | Пакетная или дисковая обработка в зависимости от конечной станции |
|---|
| Класс тока | High Current |
|---|
| Диапазон энергии | Определяется установленной высоковольтной системой и конфигурацией beamline |
|---|
| Источник ионов | Тип источника и совместимые примеси необходимо подтверждать по конкретной машине |
|---|
| Контроль дозы | Faraday-система и дозовый контроллер; комплектность и калибровка требуют проверки |
|---|
| Подача технологических газов | Газовые шкафы, MFC и линии зависят от установленной конфигурации |
|---|
| Система управления | Контроллер, версия программного обеспечения и база рецептов проверяются индивидуально |
|---|
Обозначение «160» является частью названия модели. Указывать его как гарантированную максимальную энергию конкретной машины без проверки высоковольтных источников и технической документации не следует.
Чем отличаются комплектации SEN 10GSD-A-160
На вторичном рынке можно встретить как относительно комплектные линии, так и машины, из которых были сняты отдельные шкафы, насосы, source-компоненты или элементы автоматизации. Поэтому цена оборудования должна сравниваться только после проверки состава поставки.
Основные различия между предложениями:
исполнение загрузки для пластин 150 или 200 мм;
конструкция диска и количество устанавливаемых пластин;
тип источника ионов и комплектация source head;
состав extraction assembly и beamline;
диапазон высоковольтных источников;
возможности наклона и поворота пластин;
система охлаждения диска и пластин;
комплектация Faraday и дозового контроллера;
тип газовых шкафов и доступные линии примесей;
состав вакуумной системы;
кассетные станции, aligner и робот загрузки;
управляющее оборудование и версия программного обеспечения.
Что проверить перед восстановлением и запуском
Перед поставкой необходимо подтвердить состояние вакуумных насосов, источника ионов, изоляторов, электродов, анализирующего магнита, диска, привода конечной станции, охлаждающей системы и всех защитных блокировок.
Если машина уже демонтирована, следует проверить наличие кабелей, газовых панелей, высоковольтных шкафов, теплообменника, насосов и сервисных приспособлений. Отсутствие одного вспомогательного узла может заметно увеличить срок и стоимость повторного запуска.
Для оборудования, находящегося под питанием, желательно запросить данные вакуумной проверки, запуск источника, подтверждение прохождения пучка, показания дозового контроллера и журнал аварийных сообщений.
Что указать в запросе на оборудование
Для оценки применимости 10GSD-A-160 сообщите размер пластин, материал подложки, вид легирующей примеси, требуемые диапазоны энергии и дозы, ожидаемый ток пучка, угол имплантации и планируемый производственный процесс.
Для сравнения доступны другие высокоточные платформы: SEN GSD III 90 и Axcelis GSD200. Все модели находятся в разделе ионных имплантеров б/у.
Если проект включает активационный или восстановительный отжиг после имплантации, посмотрите оборудование для термической обработки пластин.