Axcelis GSD200 — промышленный высокоточный ионный имплантер для легирования полупроводниковых пластин. Система рассчитана на процессы с высокой дозой, где важны производительность, стабильность и равномерное распределение примеси по поверхности пластины.
GSD200 имеет пакетную схему обработки: несколько пластин устанавливаются на вращающийся диск внутри конечной станции. Такая конструкция применяется на серийных производственных линиях с пластинами диаметром 150 и 200 мм.
Для каких процессов используется Axcelis GSD200
При ионной имплантации атомы легирующего элемента ионизируются, ускоряются электрическим полем и направляются на поверхность полупроводниковой пластины. Глубина проникновения и концентрация примеси задаются энергией пучка, дозой, током и параметрами технологического рецепта.
GSD200 используется прежде всего для высокодозовых операций. Типовые задачи включают:
формирование областей истока и стока;
легирование контактных областей;
формирование низкоомных областей в кремнии;
коррекцию электрических характеристик полупроводниковой структуры;
серийное производство приборов по отработанным техпроцессам на пластинах 150 и 200 мм.
Высокий ток пучка позволяет быстрее набирать требуемую дозу. Поэтому GSD200 обычно рассматривают для производственных операций, в которых необходима высокая производительность, а не только широкий диапазон энергии.
Какие пластины и изделия можно обрабатывать
Система применяется преимущественно для легирования кремниевых пластин. Она может использоваться при производстве следующих изделий:
аналоговых и силовых интегральных схем;
дискретных полупроводниковых приборов;
MOS- и CMOS-структур;
диодов и транзисторов;
датчиков и других изделий на кремниевых пластинах;
приборов, выпускаемых по зрелым технологическим нормам.
Возможность работы с бором, фосфором, мышьяком или другими примесями определяется установленным источником ионов, газовым шкафом, материалами beamline и историей эксплуатации конкретной машины.
Основные технические характеристики
| Производитель | Axcelis Technologies / Eaton Nova |
|---|
| Модель | GSD200 |
|---|
| Тип оборудования | Высокоточный ионный имплантер |
|---|
| Класс имплантации | High Current — высокий ток пучка |
|---|
| Размер пластин | 150 и 200 мм, в зависимости от установленной оснастки |
|---|
| Способ обработки | Пакетная обработка на вращающемся диске |
|---|
| Максимальная энергия | Для распространённых конфигураций указывается до 180 кэВ; значение необходимо подтвердить по высоковольтной системе конкретной машины |
|---|
| Контроль дозы | Система измерения пучка и дозовый контроллер; состав и калибровка требуют проверки |
|---|
| Положение пластин | Зависит от конструкции диска и установленной конечной станции |
|---|
| Поддерживаемые примеси | Определяются источником ионов, газовыми линиями и историей beamline |
|---|
| Состояние оборудования | Бывшее в эксплуатации; комплектность и работоспособность проверяются по конкретному предложению |
|---|
Чем отличаются конфигурации GSD200
На вторичном рынке под названием GSD200 встречаются системы с разной комплектацией. Совпадение модели не гарантирует, что оборудование можно сразу использовать для существующего рецепта заказчика.
При сравнении машин необходимо проверить:
конфигурацию источника ионов и состояние source head;
состав экстракционной системы;
тип анализирующего магнита и комплектацию beamline;
диапазон установленных высоковольтных источников;
количество позиций и размер пластин на технологическом диске;
наличие охлаждения пластин;
доступные углы имплантации, наклона и вращения;
комплектацию Faraday-системы и дозового контроллера;
газовые шкафы, линии подачи и диапазоны MFC;
конфигурацию кассет, aligner и робота загрузки;
вакуумные насосы, охлаждающее оборудование и вспомогательные шкафы;
версию контроллера, программного обеспечения и базу рецептов.
Что особенно важно проверить у подержанной машины
Для GSD200 важна не только возможность включения оборудования. Необходимо оценить состояние источника ионов, электродов, изоляторов, анализирующего магнита, вакуумной системы, вращающегося диска и охлаждения пластин.
Желательно получить фотографии шильдиков и основных узлов, список отсутствующих компонентов, историю последнего процесса, результаты проверки вакуума и сведения о последнем запуске пучка. Если оборудование демонтировано, необходимо отдельно подтвердить наличие высоковольтных шкафов, газовой системы, насосов, теплообменника и кабельных комплектов.
Какие данные нужны для подбора
Для подбора Axcelis GSD200 сообщите диаметр пластин, требуемый тип примеси, диапазон энергии, рабочую дозу, ожидаемый ток пучка, угол имплантации и требования к температуре пластин.
После имплантации пластина обычно проходит термический отжиг для активации примеси и восстановления кристаллической решётки. Подходящие печи и системы отжига представлены в разделе оборудования для термической обработки.
Другие доступные модели можно посмотреть в разделе ионных имплантеров. Для сравнения близких по назначению платформ доступны SEN GSD III 90 и SEN 10GSD-A-160.